Vortragsprogramm 2005
Die auf dem diesjährigen Workshop gehaltenen Vorträge stehen hier als pdf-Dateien bereit. Einige Dateien sind mehrere MB groß.
Mittwoch, 16.3.2005 - Donnerstag, 17.3.2005 - Freitag, 18.3.2005
Mittwoch, 16.3.2005
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H. Neumann |
9.00 |
Begrüßung und Informationen der Veranstalter |
9.15 |
Hans Meusemann, Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt, Bonn
Mit elektrischem Antrieb durch den Weltraum - von den Anfängen bis in die Zukunft |
10.00 |
Eva Schubert, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Chirale Silizium-Nanostrukturen mit GLAD
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10.20 |
Klaus Ellmer, K. Harbauer, Hahn-Meitner Institut, Berlin
Charakterisierung einer Magnettronsputterquelle mittels Raten-, Energie- und Langmuir-Messungen
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10:40 |
Darina Manova, Stephan Mändl, Horst Neumann, Bernd Rauschenbach, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Ion nitriding of stainless steel |
11:00 |
Pause |
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H. Meusemann |
11.20 |
Bashkim Ziberi, Frank Frost, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Ionenstrahlinduzierte Selbstorganisation auf Si- und Ge-Oberflächen
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11.40 |
Günter J. Peter, Inficon AG, Fürstentum Lichtenstein
Endpunktdetektion bei Ion Milling Prozessen |
12.00 |
Thomas Schwarz-Selinger, Martin Bauer, Wolfgang Jacob, Achim von Keudell*, Max- Planck-Institut für Plasmaphysik Garching, * Uni Bochum
Wachstumsspezies bei der plasmagestützten Abscheidung amorpher, wasserstoffhaltiger Kohlenstoffschichten
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12.20 |
Ruben Wiese, Institut für Niedertemperaturplasmaphysik, Greifswald
Untersuchung eines Ar/O2-Magnetron-Plasmas zum ZnO-Sputtern bei der Solarzellenherstellung
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12.40 |
Mittagspause |
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B . Rauschenbach |
14.00 |
Peter Pecher, Leybold Optics GmbH, Alzenau
Die Advanced Plasma Source für Beschichtungsprozesse |
14.20 |
Peter Gawlitza, Fraunhofer – Institut für Werkstoff- und Strahltechnik, Dresden
Laserplasmen zur Abscheidung spannungsarmer Schichten auf Innenflächen |
14.40 |
Michael Tartz, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Untersuchung der Sputtereigenschaften von Extraktionsgittermaterialen
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15.00 |
Abrasonis, G., Gago, R., Vinnichenko, M., Kreissig, U., Mücklich, A., Kolitsch, A. und Möller, W., FZ Rossendorf
Deposition by ion beam sputtering of CN X thin films: the influence of the composition of the sputtering ion beam and temperature |
15.20 |
Yvonne Bohne, Stephan Mändl, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Abscheidung von Magnesiumlegierungen durch Ionenstrahlzerstäubung |
15.40 |
Pause |
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S. Mändl |
16.10 |
Thomas Thamm, Technische Universität Chemnitz
Charakterisierung und Eigenschaften von PECVD-Borcarbonitridschichten |
16.30 |
Antje Kaless, Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik, Jena
Entspiegelung von PMMA durch einen Plasma-Ionenprozess |
16.50 |
Jörg Neidhardt, Uni Loeben (Östereich)
Thermische Stabilität von Ti-Si-C Schichten |
17.10 |
Matthias Nestler, Roth & Rau AG, Wüstenbrand
Selektives Ätzen von PSG-Schichten bzgl. Si zur Effizienzsteigerung in der Si-Photovoltaik |
17.30 |
Stefan Weis, K.-H. Schartner, Uni Gießen
Abbildende Spektroskopie mit Multifaserarrays zur Untersuchung von Ionen- und Plasmatriebwerken |
17.50 |
Steffen Jankuhn, F. Scholze, E. Hartmann, H. Neumann, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Beschreibung von Ionenquellenplasmen, ionenoptischen Prozessen am Multiaperturgittersystem und Neutralisationseffekten am Substrat mit Hilfe des Codes XOOPIC |
20.00 |
Abendvortrag
Ralf Fellenberg, VDI-TZ Düsseldorf GmbH
Nanotechnologie für Produkte von heute und morgen |
Donnerstag, 17.3.2005
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K. Ellmer |
11.10 |
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11.30 |
Jürgen Meinhardt,* W. Bondzio, *Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Dünne Schichtelektroden durch Kombination von PVD- und PECVD-Verfahren |
11.50 |
Klaus Ellmer, S. Seeger, Hahn-Meitner Institut, Berlin
Einfluss des Ionenbeschussses beim Magnetronsputtern auf das Wachstum von WS2- Schichten |
12.10 |
Michael Schlüter, Christian Hopf, Wolfgang Jacob, Max- Planck-Institut für Plasmaphysik, Garching
Chemical Sputtering of a-C:H films |
12.30 |
Stefan Löhle, Institut für Raumfahrtsysteme, Uni Stuttgart
Laserinduzierte Fluoreszenzmessungen in Kombination mit numerischen Simulatiosrechnungen zur Charakterisierung von Plasmarandschichten an Materialien beim Eintritt in Atmosphären |
12.50 |
Swen Marke, IfU Diagnostic Systems GmbH, Lichtenau
Abbildende Emissionsspektroskopie an Sputterprozessen
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13.10 |
Mittagspause |
Nachmittag: Diskussionen
Freitag, 18.3.2005
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T. Schwarz-Selinger |
9.00 |
Stephan Mändl, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
SIMS zur Analyse von tribologischen PVD-Schichten |
9.45 |
D. Drozdov, Bert Krames, Jürgen Meichsner, E.-M.-Arndt-Universität, Greifswald
Phasenaufgelöste und räumlich aufgelöste optische Emission von CF2, CF und C im CF4-RF-Plasma |
10.05 |
Mathias Schubert, Universität Leipzig
Moderne in-situ und in-line Verfahren für die optische Dünnschichtcharakterisierung: Aktuelle Beispiele aus Forschung und Industrie |
10.25 |
Marcel Hähnel, H. Kersten; Institut für Niedertemperaturplasmaphysik, Greifswald
Beschichtung von Mikroteilchen unter Atmosphärendruck |
10.45 |
Pause |
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F. Frost |
11.05 |
Thomas Höche, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Tiefenaufgelöste Untersuchung der atomistischen Struktur durch Ionenimplantation amorphierter Schichten |
11.25 |
Le Thien Hoang, TU Bergakademie Freiberg
Verhalten von Stählen beim Plasmanitrieren mit dem Aktivgitter |
11.45 |
Amer Tarraf, Roth & Rau AG, Wüstenbrand
Partikelfreie MoSi-Maskblanks für die EUV-Lithographie: Herstellung und Charakterisierung |
12.05 |
Kamel Silmy, Fraunhofer Institut angewandte Polymerforschung
Mikrojet – CVD |
12.25 |
Kristian Dittmann, S. Peters, Jürgen Meichsner, E.-M.-Arndt-Universität, Greifswald
Wechselwirkung eines Niedertemperaturplasmas in Sauerstoff mit einem Festkörperelektrolyten (Ytrium stabilisiertes Zirkonoxid) |
12.45 |
Mittagspause |
Ende der Veranstaltung ca. 13.00
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