Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung Leipzig

Workshop "Oberflächentechnologie mit Plasma- und Ionenstrahlprozessen"

veranstaltet vom
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Leipzig und dem
Institut für Physik der Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald

Ernst-Moritz-Arndt Universität Greifswald
Einladung Programm 2005 alle Veranstaltungen

Vortragsprogramm 2005

Die auf dem diesjährigen Workshop gehaltenen Vorträge stehen hier als pdf-Dateien bereit. Einige Dateien sind mehrere MB groß.

Mittwoch, 16.3.2005   -     Donnerstag, 17.3.2005   -    Freitag, 18.3.2005

 

Mittwoch, 16.3.2005

H. Neumann
9.00 Begrüßung und Informationen der Veranstalter
9.15

Hans Meusemann, Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt, Bonn
Mit elektrischem Antrieb durch den Weltraum - von den Anfängen bis in die Zukunft

10.00

Eva Schubert, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Chirale Silizium-Nanostrukturen mit GLAD

10.20

Klaus Ellmer, K. Harbauer, Hahn-Meitner Institut, Berlin
Charakterisierung einer Magnettronsputterquelle mittels Raten-, Energie- und Langmuir-Messungen

10:40 Darina Manova, Stephan Mändl, Horst Neumann, Bernd Rauschenbach, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Ion nitriding of stainless steel
11:00 Pause
H. Meusemann
11.20

Bashkim Ziberi, Frank Frost, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Ionenstrahlinduzierte Selbstorganisation auf Si- und Ge-Oberflächen

11.40 Günter J. Peter, Inficon AG, Fürstentum Lichtenstein
Endpunktdetektion bei Ion Milling Prozessen
12.00

Thomas Schwarz-Selinger, Martin Bauer, Wolfgang Jacob, Achim von Keudell*, Max- Planck-Institut für Plasmaphysik Garching, * Uni Bochum
Wachstumsspezies bei der plasmagestützten Abscheidung amorpher, wasserstoffhaltiger Kohlenstoffschichten

12.20

Ruben Wiese, Institut für Niedertemperaturplasmaphysik, Greifswald
Untersuchung eines Ar/O2-Magnetron-Plasmas zum ZnO-Sputtern bei der Solarzellenherstellung

12.40 Mittagspause
B . Rauschenbach
14.00

Peter Pecher, Leybold Optics GmbH, Alzenau
Die Advanced Plasma Source für Beschichtungsprozesse

14.20 Peter Gawlitza, Fraunhofer – Institut für Werkstoff- und Strahltechnik, Dresden
Laserplasmen zur Abscheidung spannungsarmer Schichten auf Innenflächen
14.40

Michael Tartz, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Untersuchung der Sputtereigenschaften von Extraktionsgittermaterialen

15.00

Abrasonis, G., Gago, R., Vinnichenko, M., Kreissig, U., Mücklich, A., Kolitsch, A. und Möller, W., FZ Rossendorf
Deposition by ion beam sputtering of CN X thin films: the influence of the composition of the sputtering ion beam and temperature

15.20 Yvonne Bohne, Stephan Mändl, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Abscheidung von Magnesiumlegierungen durch Ionenstrahlzerstäubung
15.40 Pause
S. Mändl
16.10 Thomas Thamm, Technische Universität Chemnitz
Charakterisierung und Eigenschaften von PECVD-Borcarbonitridschichten
16.30

Antje Kaless, Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik, Jena
Entspiegelung von PMMA durch einen Plasma-Ionenprozess

16.50

Jörg Neidhardt, Uni Loeben (Östereich)
Thermische Stabilität von Ti-Si-C Schichten

17.10 Matthias Nestler, Roth & Rau AG, Wüstenbrand
Selektives Ätzen von PSG-Schichten bzgl. Si zur Effizienzsteigerung in der Si-Photovoltaik
17.30 Stefan Weis, K.-H. Schartner, Uni Gießen
Abbildende Spektroskopie mit Multifaserarrays zur Untersuchung von Ionen- und Plasmatriebwerken
17.50 Steffen Jankuhn, F. Scholze, E. Hartmann, H. Neumann, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Beschreibung von Ionenquellenplasmen, ionenoptischen Prozessen am Multiaperturgittersystem und Neutralisationseffekten am Substrat mit Hilfe des Codes XOOPIC

 

20.00 Abendvortrag
Ralf Fellenberg, VDI-TZ Düsseldorf GmbH
Nanotechnologie für Produkte von heute und morgen

 

Donnerstag, 17.3.2005

J. Meichsner
9.00

Jörg Lindner, Universität Augsburg
Synthese von SiC mit Ionenstrahlen - Vom Nanokristall zu Dünnfilm und Mikrostruktur

9.45 Frank Frost, B. Ziberi; Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Der Einfluss rückgestreuter Primärionen und zerstäubter Targetatome auf die Entwicklung der Oberflächentopographie bei der Ionenstrahlerosion von Silizium
10.05

Frank Scholze, H. Neumann, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Konzept für einen induktiv gekoppelten HF-Plasmabrückenneutralisator

10.25

Ines Dani, Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik, Dresden
Modifikation einer Atmosphärendruck – Mikrowellenplasmaquelle und Auswirkungen auf das SiO2-Schichtwachstum

10.45 Pause
 
K. Ellmer
11.10
Stanislav Mráz, J. M. Schneider, RWTH Aachen
Plasma chemistry of a Nb/Ar/O2 magnetron discharge
11.30

Jürgen Meinhardt,* W. Bondzio, *Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Dünne Schichtelektroden durch Kombination von PVD- und PECVD-Verfahren

11.50 Klaus Ellmer, S. Seeger, Hahn-Meitner Institut, Berlin
Einfluss des Ionenbeschussses beim Magnetronsputtern auf das Wachstum von WS2- Schichten
12.10

Michael Schlüter, Christian Hopf, Wolfgang Jacob, Max- Planck-Institut für Plasmaphysik, Garching
Chemical Sputtering of a-C:H films

12.30

Stefan Löhle, Institut für Raumfahrtsysteme, Uni Stuttgart
Laserinduzierte Fluoreszenzmessungen in Kombination mit numerischen Simulatiosrechnungen zur Charakterisierung von Plasmarandschichten an Materialien beim Eintritt in Atmosphären

12.50

Swen Marke, IfU Diagnostic Systems GmbH, Lichtenau
Abbildende Emissionsspektroskopie an Sputterprozessen

13.10

Mittagspause

Nachmittag: Diskussionen

 

Freitag, 18.3.2005

T. Schwarz-Selinger
9.00

Stephan Mändl, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
SIMS zur Analyse von tribologischen PVD-Schichten

9.45 D. Drozdov, Bert Krames, Jürgen Meichsner, E.-M.-Arndt-Universität, Greifswald
Phasenaufgelöste und räumlich aufgelöste optische Emission von CF2, CF und C im CF4-RF-Plasma
10.05

Mathias Schubert, Universität Leipzig
Moderne in-situ und in-line Verfahren für die optische Dünnschichtcharakterisierung: Aktuelle Beispiele aus Forschung und Industrie

10.25

Marcel Hähnel, H. Kersten; Institut für Niedertemperaturplasmaphysik, Greifswald
Beschichtung von Mikroteilchen unter Atmosphärendruck

10.45 Pause
F. Frost
11.05

Thomas Höche, Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig
Tiefenaufgelöste Untersuchung der atomistischen Struktur durch Ionenimplantation amorphierter Schichten

11.25

Le Thien Hoang, TU Bergakademie Freiberg
Verhalten von Stählen beim Plasmanitrieren mit dem Aktivgitter

11.45 Amer Tarraf, Roth & Rau AG, Wüstenbrand
Partikelfreie MoSi-Maskblanks für die EUV-Lithographie: Herstellung und Charakterisierung
12.05

Kamel Silmy, Fraunhofer Institut angewandte Polymerforschung
Mikrojet – CVD

12.25

Kristian Dittmann, S. Peters, Jürgen Meichsner, E.-M.-Arndt-Universität, Greifswald
Wechselwirkung eines Niedertemperaturplasmas in Sauerstoff mit einem Festkörperelektrolyten (Ytrium stabilisiertes Zirkonoxid)

12.45 Mittagspause

Ende der Veranstaltung ca. 13.00

 



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